[자연과학][experiment(실험)레포트(report) ] TFT 공정
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작성일 22-10-21 00:47
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실험과제/기타
목차
서론본론conclusion(결론)實驗목적
實驗 이론(理論)Auto CAD
Photolithography Process
Cell Process實驗결과 및 고찰
서론
▶ 實驗 목적
Auto CAD 프로그램(program]) 으로 자신이 직접 디자인한 Mask를 그려본다.
line : 선을 그려주는 명령어
Mask 디자인
→ 상판에는 한 개의 공통전극으로 패턴이 모두 연결되어 있으며, 하판에는 8개의 각 전극에 각 패턴에 연결되어 있따
▶ Photolithography Process
Positive PR : 빛에 노출되었던 부분이 현상과정을 거치면서 제거
Negative PR : 빛에 노출되지 않았던 부분이 현상과정을 거치면서 제거
→ 우리가 實驗에 사용한 PR용액은 Positive PR이다.
pedit 명령 : 객체들을 하나로 연결시켜준다.세정기판에 묻어있는 particle 제거
1차 세정 : ultrasonic에 …(省略)
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다.공정내용기판 cuttingITO가 증착된 유리 기판을 100 by 100의 크기로 자른다.
Trim(자르기) : 겹쳐있는 선들에서 원하는 곳 을 자를 수 있따
explode(분해) : 합쳐져 있는 객체를 분해 시켜준다.
장비를 이용하여 포통공정과 셀공정에 대해 배우고, 직접 장비를 사용하여 익혀본다.
Cell 구조
TN LCD 동작 원리
초기 분자 배향배향 상태 變化광투과율 變化표시 소자 응용 외력 (전기장)
TN mode의 長點 : 높은 개구율 및 투과율, 양산 잡음에 둔감
TN mode의 단점 : 잔류 retardation이 존재, 느린 응답속도
본론
▶ Auto CAD
기본 사용
Mirror(대칭) : 대칭축을 따라 mask를 대칭 시켜준다.
▶ 實驗 이론(理論)
우리가 實驗에서 쓰인 TN N/W mode에 관련되어 간단히 說明(설명) 하였다.
유리 기판 안에는 4개의 패턴이 들어가게 된다된다.
